采用真空连续蒸发镀膜或者磁控溅射镀膜工艺将金属铝或其他材料镀制于基底材料表面,形成致密的镀层;基底材料包括聚酯薄膜、(黑色)聚酰亚胺薄膜、F46薄膜。具有纯度高、与基底结合好、性能较稳定、较好的抗氧化、较高的反射率等特性。可根据需求进进行单面镀、双面镀、打孔、压纹等。
采用真空连续蒸发镀膜或者磁控溅射镀膜工艺将金属铝或其他材料镀制于基底材料表面,形成致密的镀层;基底材料包括聚酯薄膜、(黑色)聚酰亚胺薄膜、F46薄膜。具有纯度高、与基底结合好、性能较稳定、较好的抗氧化、较高的反射率等特性。可根据需求进进行单面镀、双面镀、打孔、压纹等。